本標準規(guī)定了利用俄歇電子能譜（AES）和X射線光電子能譜（XPS）測定深度剖析離子濺射速率的方法，試樣的離子濺射面積范圍為0.4 mm?2～3.0 mm?2。本標準只適用于橫向均勻的體相材料或單層材料，其離子濺射速率由濺射深度與濺射時間確定，濺射深度通過機械探針輪廓儀測得。?本標準提供了一種將深度剖析中的離子濺射時間轉換為濺射深度的方法，并假設濺射速率恒定。本方法不是為掃描探針顯微系統(tǒng)設計的，因此不能用掃描探針顯微系統(tǒng)評價該方法。本方法不適用于濺射面積小于0.4 mm?2的情況，也不適用于濺射誘導的表面粗糙度與被測區(qū)域的濺射深度相比較明顯的情況。