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γ射線工業(yè)CT放射衛(wèi)生防護(hù)標(biāo)準(zhǔn)

標(biāo) 準(zhǔn) 號: GBZ 175-2006
替代情況:
發(fā)布單位: 中華人民共和國衛(wèi)生部
起草單位: 重慶市衛(wèi)生局衛(wèi)生監(jiān)督所、重慶大學(xué)ICT研究中心
發(fā)布日期: 2006-11-03
實施日期: 2007-04-01
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更新日期: 2010年08月11日
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內(nèi)容摘要

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了γ射線工業(yè)CT設(shè)備的防護(hù)性能、檢測室防護(hù)設(shè)施以及γ射線工業(yè)CT設(shè)備在使用和維護(hù)過程 的放射衛(wèi)生防護(hù)要求。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于密封源活度大于或等于4×Bq的γ射線工業(yè)CT設(shè)備及其掃描檢測實踐;密封源活度低于4×Bq的γ射線工業(yè)CT設(shè)備及其掃描檢測實踐可參照此標(biāo)準(zhǔn)執(zhí)行。

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