本文件描述了X射線衍射定向和光圖定向測定半導體單晶晶向的方法。
本文件適用于半導體單晶晶向的測定。X射線衍射定向法適用于測定硅、鍺、砷化鎵、碳化硅、氧化鎵、氮化鎵、銻化銦和磷化銦等大致平行于低指數原子面的半導體單晶材料的表面取向；光圖定向法適用于測定硅、鍺等大致平行于低指數原子面的半導體單晶材料的表面取向。